K-Alpha

O produktu

XPS spektrometr K-Alpha  představuje zcela novou koncepci povrchových analyzátorů využívajících metodu vysokého rozlišení vysoceenergetického prvkově charakteristického rentgenova záření, tj. vysoce energetických fotonů. K-Alpha  je koncipován tak, aby uspokojil akademická a vědecko-výzkumná pracoviště v oblasti studia povrchových vlastností a povrchových struktur, ale má ambice a vlastnosti pronikat i do vysoce kvalifikovaných rutinních centrálních provozních laboratoří, např. v oblasti metalurgie a speciálních materiálů. Pro tyto účely je K-Alpha  vhodnou alternativou špičkového vědeckého XPS spektrometru ESCALAB.

XPS spektrometr K-Alpha  je na špici přístrojové produkce

K-Alpha  je kompaktní, vysocevýkonný analyzátor pro studium, elementární a vazebnou analýzu povrchů a povrchových filmů metodou XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy). Spektrometr je standardně vybaven duální kompenzací náboje, monochromatickým zdrojem rentgenova záření, možností hloubkového profilování argonovými ionty, volitelně i argonovými klastry, úhlově závislou XPS. Je k dispozici i plně automatizovaný zdroj UV záření pro UPS a vakuový přenosový modul pro citlivé vzorky. Všechny funkce přístroje, včetně programovatelné manipulace se vzorky, jsou plně digitálně řízené z prostředí řídícího a vyhodnocovacího programového balíku Avantage. Součástí SW Avantage je unikátní XPS Knowledge base. Tyto vlastnosti řadí XPS spektrometr K-Alpha - mezi ostatními výrobci - na špici přístrojové produkce v této oblasti.

Z definice - je za 'povrch' je považována vrstva materiálu o tlouště cca 1 nm, tj. přibližně tři atomové vrstvy. Za ultra-tenký film je považována vrstva o tloušťce cca 1-10 nm, tj. 3-30 atomových vrstev. Tenké filmy o tloušťkách od 10 nm do cca 1 mm, tj. od 30 do 300 atomových vrstev.

Nejdůležitější techniky pro studium vlastností povrchů a ultra-tenkých povrchových filmů jsou metody XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) a AES (Auger Electron Spectroscopy).

Obě metody jsou založené na sledování kinetické energie elektronů emitovaných z povrchu a ultra-tenkého povrchového filmu vzorku. Tak je možné nedestruktivně získat unikátní kvalitativní a kvantitativní informace o složení těchto částí vzorku, hloubkovém profilu a na rozdíl od XRF (X-Ray Fluorescence) i o vazebných stavech. Pro metodu XPS se rovněž používá označení ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis).

To vše umožňují špičkové XPS analyzátory firmy Thermo Scientific.