LFA/XFA - Laser Flash/Xenon Flash
Vzorek je umístěn vodorovně v peci, která je vyhřívána na definovanou teplotu. Při této teplotě je vzorek ozářen naprogramovanou pulsní energií (laser nebo xenonový blesk). Tento puls energie má za následek homogenní zvýšení teploty vzorku na horní vrstvě. Výsledný nárůst teploty horní vrstvy vzorku se měří vysokorychlostním IR detektorem. Tepelná vodivost je vypočtena z nárůstu teploty v závislosti na čase
HFM - Heat Flow Meter
Tento průtokoměr poskytuje rychlý a snadno použitelný nástroj pro
stanovení tepelné vodivosti u materiálů s nízkou vodivostí, izolačních
materiálů s vysokou přesností. Přístroj vyhovuje normám ASTM C518, JIS,
ISO A1412 8301 a DIN 12667. Principem měření je umístění vzorku mezi
teplé a studené desky a měření tepelného toku.
THB - Transient Hot Bridge
Příprava pevných vzorků je velmi jednoduchá: jedna rovná plocha ze dvou
polovin vzorků je pro snímač postačující. Referenční nebo kalibrační
měření není potřeba. Samozřejmostí THB je měření absolutních hodnot s
velkou přesností. Senzory lze snadno vyměnit, jsou k dispozici jak pro
laboratorní, tak pro použití v terénu.
THB měří zcela
automaticky, software optimalizuje proces měření nezávisle, s cílem
krátkého času a minimální nejistoty. Kromě toho neustále sleduje možný
teplotní drift vzorku. Kromě naměřených hodnot, software vypočítá a
zobrazí související nejistoty měření v souladu s mezinárodní normou ISO.
Tepelná vodivost
O produktu
Technická specifikace
XFA 300
Počet vzorků: až 6
Teplotní rozsah: RT - 300 °C
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,1 - 2000 W/mK
Zdroj: xenon flash
Energie: 10 J/Puls
Atmosféra: inert, oxid.
XFA 500
Počet vzorků: až 6
Teplotní rozsah: RT - 500 °C
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,1 - 2000 W/mK
Zdroj: xenon flash
Energie: 10 J/Puls
Atmosféra: inert, oxid., red., vac.
Vakuum: 10-5 mbar
LFA 1000
Počet vzorků: až 6
Teplotní rozsah: -125 - 500 °C, RT - 1250 °C, RT - 1600 °C
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,1 - 2000 W/mK
Zdroj: Nd: YAG Laser
Energie: 25 J/Puls
Atmosféra: inert, oxid., red., vac.
Vakuum: 10-5 mbar
TF-LFA
Rozměr vzorku: disk s průměrem 10 - 20 mm
Tloušťka filmu: 80 nm - 20 μm
Teplotní rozsah: RT, RT - 500 °C, -100 - 500 °C
Rychlost ohřevu a chlazení: 0,01 - 10 °C min-1
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Atmosféra: inert, oxid., red.
THB
Tepelná difuzivita: 0,05 - 10 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,01 - 30 W/mK
Měrná tepelná kapacita: 100 - 5000 kJ/m3K
Počet vzorků: až 6
Teplotní rozsah: RT - 300 °C
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,1 - 2000 W/mK
Zdroj: xenon flash
Energie: 10 J/Puls
Atmosféra: inert, oxid.
XFA 500
Počet vzorků: až 6
Teplotní rozsah: RT - 500 °C
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,1 - 2000 W/mK
Zdroj: xenon flash
Energie: 10 J/Puls
Atmosféra: inert, oxid., red., vac.
Vakuum: 10-5 mbar
LFA 1000
Počet vzorků: až 6
Teplotní rozsah: -125 - 500 °C, RT - 1250 °C, RT - 1600 °C
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,1 - 2000 W/mK
Zdroj: Nd: YAG Laser
Energie: 25 J/Puls
Atmosféra: inert, oxid., red., vac.
Vakuum: 10-5 mbar
TF-LFA
Rozměr vzorku: disk s průměrem 10 - 20 mm
Tloušťka filmu: 80 nm - 20 μm
Teplotní rozsah: RT, RT - 500 °C, -100 - 500 °C
Rychlost ohřevu a chlazení: 0,01 - 10 °C min-1
Tepelná difuzivita: 0,01 - 1000 mm2/s
Atmosféra: inert, oxid., red.
THB
Tepelná difuzivita: 0,05 - 10 mm2/s
Tepelná vodivost: 0,01 - 30 W/mK
Měrná tepelná kapacita: 100 - 5000 kJ/m3K
